熱絲HFCVD金剛石沉積裝置

微熱絲化學氣相沉積(HOT FILAMENT CHEMICAL，VAPOR DEPOSITION，HFCVD)技術是金剛石薄膜沉積的常用技術之一，具有設備簡單、操作便利、成本較低、適用于大面積、復雜形狀刀具金剛石涂層沉積等優(yōu)點。

關鍵詞：標準漏孔 | MPCVD | 電容薄膜規(guī)真空計 | 高低真空校準裝置 | 氦漏孔校準裝置

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產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品介紹
微熱絲化學氣相沉積(HOT FILAMENT CHEMICAL，VAPOR DEPOSITION，HFCVD)技術是金剛石薄膜沉積的常用技術之一，具有設備簡單、操作便利、成本較低、適用于大面積、復雜形狀刀具金剛石涂層沉積等優(yōu)點。本公司設計制造的HFCVD設備是用以在硬質合金刀具基體沉積金剛石薄膜的專用設備該設備具備手動/自動兩種控制功能，通過人機界面操作，能滿足各種復雜的沉積金剛石涂層工藝的要求。

技術參數(shù)

HF350		HF450		HF550
反應腔尺寸	Ф350×420mm	反應腔尺寸	Ф450×450mm	反應腔尺寸	Ф550×550mm
反應腔升降行程	350mm	反應腔升降行程	350mm	反應腔升降行程	350mm
工作臺尺寸	200x100x80mm	工作臺尺寸	220×220mm	工作臺尺寸	φ300mm 300×300mm
工作臺升降行程	£90 mm	工作臺升降行程	£90 mm	工作臺升降行程	£90 mm
工作氣壓調節(jié)范圍	1000-10000 Pa (±5%)	工作氣壓調節(jié)范圍	1000-10000 Pa (±5%)	工作氣壓調節(jié)范圍	1000-10000 Pa (±5%)
反應腔極限真空度	≤3 Pa	反應腔極限真空度	≤3 Pa	反應腔極限真空度	≤3 Pa
反應腔保壓能力	≤50 Pa/hrs	反應腔保壓能力	≤50 Pa/hrs	反應腔保壓能力	≤50 Pa/hrs
四路質量流量計配氣	氫氣、甲烷、氮氣、氬氣	四路質量流量計配氣	氫氣、甲烷、氮氣、氬氣	四路質量流量計配氣	氫氣、甲烷、氮氣、氬氣
熱絲加熱功率	10 kW	熱絲加熱功率	20 kW	熱絲加熱功率	30 kW
設備總功率	15 kW	設備總功率	25 kW	設備總功率	36 kW
直流偏壓（需選配）	0-100 V (可定制）	直流偏壓（需選配）	0-100 V (可定制）	直流偏壓（需選配）	0-100 V (可定制）
直流偏流（需選配）	0-5A (可定制）	直流偏流（需選配）	0-5A (可定制）	直流偏流（需選配）	0-5A (可定制）
基體溫度	500-1300 °C	基體溫度	500-1300 °C	基體溫度	500-1300 °C

主要特點
1.該設備具有彈性拉絲和配重錘拉絲機構，在最高熱絲溫度（2300°C左右）下，可以使熱絲保持平直不彎曲；
2.配套可編程工藝參數(shù)可保證金剛石薄膜沉積速率的穩(wěn)定性，并可滿足各類高質量金剛石薄膜的沉積，包括微米金剛石薄膜、納米金剛石薄膜和微納多層復合膜等；
3.設備整體結構經(jīng)過優(yōu)化設計，可滿足不同形狀基體表面金剛石薄膜的均勻沉積，并可用于金剛石薄膜涂層刀具、熱沉片和陶瓷金屬密封環(huán)的批量化生產(chǎn)；
4.鐘罩、底盤、工作臺和反應腔體均采用水冷以避免過熱，且另裝有安全聯(lián)鎖和保護裝置，可以確保設備的安全運行。

功能
1.能夠實現(xiàn)在復雜形狀硬質合金基體表面自動化生產(chǎn)批量均勻的沉積高質量金剛石薄膜。
2.真空反應腔可調壓力范圍可以滿足各類金剛石薄膜沉積的要求，即可線性調節(jié)壓力范圍為1000~10000 Pa。
3.采用水冷工作臺，工作臺在反應腔打開和設備運行條件下可升降；刀具裝入夾具后，整體方便移動而不掉出，放入樣品臺后保證穩(wěn)定固定。
4.采用鉭絲作為熱源，采用耐高溫熱絲裝夾及張緊裝置，彈簧拉絲機構和配重錘拉絲機構，保證沉積過程中熱絲平直，不彎曲下垂；熱絲溫度可達到2200 °C，襯底溫度可測溫，熱絲工作狀態(tài)異常具有報警功能。基體與熱絲間的距離可根據(jù)金剛石薄膜沉積要求自由調整。
5.鐘罩式反應腔為夾套式，側面有觀察窗，反應腔夾套及底盤均采用水冷，底盤進出氣口確保氣密性并可在沉積過程中耐高溫。采用高性能真空泵排氣系統(tǒng)，可保證反應壓力的穩(wěn)定性，無氣體外泄。
6.水冷回路包括總進水和排水口，各分路供水流暢。
7.帶真空、壓力、水壓、危險氣體泄露、加熱安全聯(lián)鎖和保護裝置及相應報警系統(tǒng)，可確保設備的安全運行；爐腔升、降，放氣鍵，采用實體鍵和虛擬鍵。
8.4路配氣系統(tǒng)，分別為氫氣、甲烷、氬氣和氮氣，采用進口質量流量計控制流量。（可選配增加氣體流量和液體摻雜流量）
9.氣由鐘罩頂端進氣，出氣口在工作臺下方，確保反應腔內氣體分布的均勻性。
10. HFCVD沉積設備中的控制參數(shù)經(jīng)過相應的傳感器測量，測量的信號數(shù)據(jù)進行A/D轉換和信號調理傳輸?shù)焦た貦C中，對數(shù)據(jù)進行采集、顯示、運算等步驟，得到檢測信號數(shù)據(jù)，實現(xiàn)自動工藝數(shù)據(jù)存儲的功能，保存數(shù)據(jù)容量達到1年。

優(yōu)點：

操作簡單、全自動化控制

提供生產(chǎn)夾具、滿足用戶需求

提供配套生產(chǎn)工藝

終身技術支持

一站式解決配套方案

設備特點
全自動工控界面、支持遠程操控.一鍵式開關機，實現(xiàn)無人值守.自動非接觸式遠紅外測溫.選用精密直流電源、水路全監(jiān)測.選用高效率直聯(lián)旋片泵.

應用
金剛石涂層刀具可以應用于高速加工，原因是除了金剛石涂層刀具具有優(yōu)良的機械性能外，金剛石涂層工藝能夠制備任意復雜形狀銑刀，用于高速加工如鋁、鈦合金、航空材料和難加工非金屬材料如石墨電極等;